:::首頁 技術交易市集 技術交易市集單筆檢視 字級 大 中 小 技術交易市集單筆檢視 半導體埃米級表面平滑技術：微波化學機械拋光 索取更多資訊 無障礙增加內容 無障礙增加內容 材料化工與奈米 技術/專利摘要表 附加圖片 摘要 碳化矽具顯著高能隙優勢，成為淨零排放科技的首選材料。然其高硬度與強化惰性使表面拋光成為製程瓶頸，現有技術面臨低移除率、高成本及環境污染問題。微波創新技術則無需添加重金屬或催化劑，乃在固-液界面激發電子實現潔淨氧化還原反應，將表面轉為易拋氧化物，提升拋光效率，具推動半導體製造業朝經濟、高效、環保發展。 資料類別 技術 資料編號 S11401T0300 發明人 所有人 National Central University(國立中央大學) 所有人屬性 學術機構 技術成熟度 雛型 上架日期 2025/01/24 交易方式 自行洽談, 刊登有效日期 2027/01/24 相關網站 您可能感興趣的技術 登入TWTM會員獲得更多資訊