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無機高分子材料、其形成方法、及所形成之無機高分子塗膜

材料化工與奈米

技術/專利摘要表

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摘要
本發明一實施例提供一種無機高分子材料的形成方法,包括:混合10至80重量份之四烷氧基矽烷(tetraalkoxysilane)及10至80重量份之三烷氧基矽烷(triaalkoxysilane)以形成一混合物;在該混合物中加入5至30重量份之觸媒,在pH值介於0.05至4下進行反應,以形成一無機高分子材料。本發明另一實施例亦提供一種無機高分子材料,及其所形成之無機高分子塗膜。
資料類別
專利
資料編號
S11209M0041
發明人
所有人
工業技術研究院
所有人屬性
研究機構
技術成熟度
實驗室階段
上架日期
2023/09/18
交易方式
技術授權,專利_非專屬授權,合作開發,
刊登有效日期
2025/09/18
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專利保護情形

專利保護狀態
已獲證
申請國
中華民國
專利類別
發明(TW,CN)/特許(JP)/Utility(US)
申請號
101148232
申請日期
2012/12/19
公告號
TWI594947
公告日期
2017/08/11
專利權起算日
2017/08/11
專利權屆滿日
2032/12/18


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