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氮化鎵高功率與高頻技術

無線通訊技術 電子與光電 光電半導體技術 奈米電子技術

技術/專利摘要表

附加圖片
氮化鎵高功率與高頻技術IMG
摘要
◆發展GaN基底的高電子遷移率電晶體之核心磊晶與元件技術,包含新型基板與緩衝層的開發、磊晶層的應力與翹曲管理、高電導率磊晶技術及功率元件製造技術
資料類別
技術
資料編號
S11204I0042
發明人
所有人
Industrial Technology Research Institute(工業技術研究院)
所有人屬性
研究機構
技術成熟度
試量產
上架日期
2023/04/10
交易方式
專利_專屬授權,專利_非專屬授權,合作開發,自行洽談,
刊登有效日期
2025/04/13
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