:::首頁 技術交易市集 技術交易市集單筆檢視 字級 大 中 小 技術交易市集單筆檢視 提升犧牲電極金屬釋放率的表面處理方法及犧牲電極 索取更多資訊 無障礙增加內容 無障礙增加內容 環保技術 技術/專利摘要表 附加圖片 摘要 一種適於同時進行電混凝及高級氧化程序之水處理反應器，包含：一直立的密閉反應槽，其具有一金屬槽體或具有設於該反應槽之內壁上的金屬作為陰極；一位於該反應槽內且與該陰極呈電絕緣的作為陽極之犧牲電極；一設於該反應槽的底部之氣液混合裝置，用於使被導入該反應槽底部的待處理水及空氣或含氧氣體充份接觸；一氣液分離裝置，其流體連通於該反應槽的頂部，用於從該反應槽的頂部排出氣體，同時防止該反應槽內的水由該氣液分離裝置排出；及一直流電源供應裝置，其正極電連接於該陽極及其負極電連接於該陰極。(TRL 6) 資料類別 專利 資料編號 S11110M0021 發明人 所有人 Industrial Technology Research Institute(工業技術研究院) 所有人屬性 研究機構 技術成熟度 其他 上架日期 2022/09/25 交易方式 技術授權,專利_非專屬授權,合作開發, 刊登有效日期 2024/09/25 相關網站 專利保護情形 專利保護狀態 已獲證 申請國 中華民國 專利類別 發明(TW,CN)／特許(JP)／Utility(US) 申請號 92135096 申請日期 2003/12/11 公告號 I261629 公告日期 2006/09/11 專利權起算日 2006/09/11 專利權屆滿日 2023/12/10 您可能感興趣的技術 登入TWTM會員獲得更多資訊