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高頻電路用銅箔及其製造方法

材料化工與奈米

技術/專利摘要表

附加圖片
摘要
一種高頻電路用銅箔及其製造方法,所述高頻電路用銅箔包括一電鍍銅層、一細微粗化銅層、一鋅鎳(Zn-Ni)鍍層、一防銹層以及一疏水層。細微粗化銅層位於電鍍銅層的一表面,基本上係由粒徑100 nm~200 nm之銅顆粒或銅合金顆粒所組成。鋅鎳鍍層位於細微粗化銅層上,且其包含有90 µg/dm2~150 µg/dm2的鋅及75 µg/dm2~120 µg/dm2的鎳。防銹層位於鋅鎳鍍層上,且其包含20 µg/dm2~40 µg/dm2的鉻。疏水層位於防銹層上,且疏水層具有80度至150度之疏水角度。
資料類別
專利
資料編號
S11108K0006
發明人
所有人
Industrial Technology Research Institute(工業技術研究院)
所有人屬性
研究機構
技術成熟度
試量產
上架日期
2022/08/15
交易方式
技術授權,
刊登有效日期
2024/08/14
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專利保護情形

專利保護狀態
申請中
申請國
美國
專利類別
發明(TW,CN)/特許(JP)/Utility(US)
申請號
16/917,914
申請日期
2020/07/01
公告號
公告日期
1900/01/01
專利權起算日
專利權屆滿日


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