TWTM電子報
2009.09.30發行

活動快報
| •2009第三場次全國專利權讓與暨專屬競標活動 | |
| 「2009第三場次全國專利權讓與暨專屬競標活動」共計 953 件專利,包括 101 個專利組合 (計 952件) 及 1 件單一專利。採通訊投標,將投標單密封後於98年10月12日(含)下午5:00前(以送達收據為憑) 掛號寄達:31040新竹縣竹東鎮中興路四段195號52館128室 林漢文經理收。 >主辦單位 : 經濟部工業局(MOEAIDB) >執行單位 : 台灣技術交易整合服務中心(TWTM) >協辦單位 : 台灣區電機電子工業同業公會(TEEMA) >讓與暨專屬授權標的 : 亞洲光學股份有限公司92件( 讓與:87件,專屬:5件) 國立台北科技大學57件 (專屬:57 件) 大同股份有限公司62件 (讓與:62 件) 天騵生化科技股份有限公司1 件 ( 專屬:1 件) 崑山科技大學 73 件 ( 讓與:73 件) 新唐科技股份有限公司276件(讓與:276 件) 明基電通股份有限公司27件 ( 讓與:27 件 ) 財團法人工業技術研究院 365件 (讓與:365件 ) | more |
| •推動化學科技產業技術交流研討會 | |
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台灣化學科技產業協進會(TCIA)有鑑於此,特舉辦「推動化學科技產業技術交流研討會」,邀請亞太技術交易股份有限公司莊水榮總經理,演講蓬勃發展的技術交易市場及介紹技術交易的催化劑-技術交易經紀人的認證程序;邀請沛芃工程股份有限公司林英民總經理,作化學科技產業技術交流案例說明;及邀請工研院張志祥主任與黃天榮研究員分別介紹「化學科技產業技術交流平台」及以「高分子新材料快速設計驗證」作案例說明。TCIA技術交流平台設計為「石化原料」、「氣候變遷」、「新化學產業-高科技產業所需關鍵原材料」等議題。 主辦單位: 經濟部工業局 執行單位: 工業技術研究院、 台灣化學科技產業協進會 協辦單位:中華智慧財產交易服務協會 >時 間:98年10月14日(星期三) 上午 09:30~12:00 >地 點:台北科技大樓(台北市和平東路二段106號605會議室) >主 持 人:中國信託商銀江偉平副總經理、清華大學馬振基教授 | more |
| •「95-97年度保健食品研究開發」全程計畫之期末口頭報告審查會 | |
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國科會、衛生署、農糧署及「保健食品研究開發」跨部會整合推動委員會,將於10月23日(五)於國立台灣大學舉辦「95-97年度保健食品研究開發」全程計畫之期末口頭報告審查會。 >會議時間:98年10月23日(五) 上午9:30∼下午2:45 >會議地點:國立台灣大學凝態科學暨物理學館(台北市羅斯福路四段1號) >主辦單位:行政院國家科學委員會、行政院衛生署、行政院農業委員會農糧署及「保健食研究開發」跨部會整會推動委員會 | more |
新進技術
| •可排放人體多餘靜電之健康鞋專利技術 | |
| 本創作的主要目的在於提供一種靜電鞋,係具有良好的靜電排除效果,且兼具可刺激足部的身體反射區之功效。
本創作的另一目的在於提供一種鞋墊,係可配合既有的靜電鞋替換使用,以刺激特定對應的足部反射區,藉此因應使用者的各種需求。
緣以達成上述的主要目的,本創作所提供的靜電鞋,係包括有一鞋身、一具有導電結構之鞋底與一設於該鞋底上方的鞋墊;該鞋墊供人體足部接觸,且具有一導電部對應該足部的身體反射區,該導電部並與該鞋底的導電結構呈電導通。藉此,本創作可達良好的靜電排除效果,且兼具可刺激身體反射區的功效。另外,本創作亦揭露一種可配合既有靜電鞋替換使用的鞋墊,以因應使用者各種不同的需求。
連絡窗口:廖先生,04-23273828,vincent@memoryg.com.tw | more |
| •密閉型電氣開關總成 [磁力真空(墮氣)無熔絲開關] | |
| 本發明電開關具有100%防水、防爆、防塵、防腐蝕等功效與優勢。
應用領域 :半導體業、紡織工業、軍火工業、釀酒業,醫藥品、香料、化妝品製造業,乙炔、乙烯、甲醇誘導品製造業,石油化學、合成樹脂、化學纖維、染料、塗料,硫安、蘇打製造業、發酵工業、船舶、礦坑、戶外、工地配電等。
連絡窗口:陳先生,magsaf.lee@msa.hinet.net,04) 2338-1116,0921-327511 |
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| •無角度限制旋轉氣壓缸 | |
| 本創作提供一種化學機械研磨用之內旋轉氣壓缸,其包含有一中空本體;一設於中空本體上之蓋體;一裝設於中空本體與蓋體所構成的容置空間內的活塞,其係可於容置空間內垂直移動;一裝設於中空本體內且穿設蓋體的轉軸;一裝設於活塞上且頂端延伸至轉軸內部的凸字形傳動軸;以及一套設於轉軸上的皮帶輪固定座,其係用以防止水氣由轉軸與凸字形傳動軸間滲入內旋轉氣壓缸內部,皮帶輪固定座轉動時係帶動轉軸與凸字形傳動軸轉動。 聯絡方式:彭小姐,0981313623,03-5366898,ssteve888tw@yahoo.com.tw |
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| •磷化銦異質接面雙極性異質接面電晶體快速製程 | |
| 利用苯並環丁烯的微影製程,直接在半導體表面形成接觸口的技術,在分別完成射極、基極、集極平台後,以一次金屬同時完成三極金屬及其量測金屬接點的方式,可以使研發人員在24工作小時內完成小元件,製作以取得高頻特性結果分析,將可大幅減少企業研發支出及時間。 聯絡方式:林先生,03-5912397,hwlin@itri.org.tw |
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| •以合金金屬製作反射性電極之二極體結構 | |
| 1.技術應用範圍:LED晶粒製作/光電材料
2.適用產業:LED磊晶廠
3.市場潛力:傳統Ag或Al 等 反射金屬雖有高反射率卻在熱穩定性方面表現不佳。特別是新型LED結構(thin-GaN, flip chip)的反射層對效率值影響甚鉅。利用此合金反射層不但可有效改善反射層金屬的熱穩定性,並同時能維持高反射率。應用在新型LED結構上深具潛力。 聯絡方式:林先生,03-5912397,hwlin@itri.org.tw |
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智財新聞
| •LSI提告半導體製程專利侵權 ITC初判南科勝訴 | |
DRAM大廠南科 (2408-TW)今(22)日表示,LSI(LSI- US;巨積)及旗下Agere(傑爾)去(2008)年向美國國際貿易委員會 (ITC)提起對半導體製造及銷售業者,包括南科及其他被告等專利侵權乙事之調查案,該案行政法官於美國時間 9月21日作出有利南科等被告的初判決定。
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| •侵權/迴避設計不可輕忽 專利布局成顯學 | |
| 產業界侵權訴訟案件屢見不鮮,除了更加突顯專利權布局的重要性之外,同時也提高產業界對於保護專利權和避免侵犯他人專利權的認知需求,其中,專利侵權與迴避設計皆為專利權布局的基本前提,也是各家廠商必須深入了解的智慧財產權知識。
新聞來源:趙鴻儒 |
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